ট্যান্টালাম লেপযুক্ত লক্ষ্য

শানসি ঝংঘেং ওয়েইচুয়াং মেটাল মেটেরিয়ালস কো ., লিমিটেড . বাওজি সিটির উচ্চ প্রযুক্তির উন্নয়ন জোনে অবস্থিত, শানসি প্রদেশ . সংস্থা মূলত প্লেটস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, স্ট্রিপস, হাফনিয়াম, ট্যানটালাম টুংস্টেন অ্যালো, নিওবিয়াম হাফনিয়াম অ্যালো সি 103, পাশাপাশি জাহাজ, ক্রুশিবলস, স্পটারিং লক্ষ্যগুলি, লেপ লক্ষ্যগুলি, মেশিনযুক্ত অংশগুলি, উচ্চ-তাপমাত্রার চুল্লি অন্তরণ স্ক্রিনস, হিটিংয়ের উপাদানগুলি, আচারের আসনগুলি) {{{{{{{

 

 

ট্যান্টালাম প্রলিপ্ত লক্ষ্যগুলির প্রস্তুতি প্রক্রিয়াটিতে নিম্নলিখিত প্রধান পদক্ষেপগুলি অন্তর্ভুক্ত রয়েছে

01.

প্রস্তুতি প্রক্রিয়া

কাঁচামাল প্রস্তুতি: উচ্চ বিশুদ্ধতা ট্যানটালাম পাউডার (99 . 95%এর চেয়ে বেশি বা সমান বিশুদ্ধতা) ইলেক্ট্রন মরীচি গলনা (ইবিএম) দ্বারা গলে যায় বা পাউডার ধাতুবিদ্যা দ্বারা গঠিত . ইবিএম পদ্ধতিটি কম বোলিং পয়েন্টের অযোগ্যতা অপসারণ করতে পারে {{{{{{MATE থেকে {{{{MATE থেকে {{{{FRINIGE, এবং REINGE।


Plastic processing: including forging, rolling, and heat treatment. Multi directional forging is carried out at 1100-1250℃, and warm rolling technology (600-800℃) is used for rolling. Heat treatment is carried out through vacuum annealing to eliminate processing stress and obtain uniform a-phase.

02.

প্রস্তুতি প্রক্রিয়া

যথার্থ মেশিনিং: ফাঁকাটি সিএনসি লেদ/মিলিং মেশিন ব্যবহার করে লক্ষ্য আকারে মেশিন করা হয়, একটি পৃষ্ঠের রুক্ষতা আরএ সহ<0.4 μ m and a flatness error ≤ 0.02mm/100mm.


বাইন্ডিং প্রযুক্তি: স্পটারিং প্রক্রিয়া চলাকালীন তাপের অপচয় হ্রাস দক্ষতা নিশ্চিত করে তামা ব্যাকিং প্লেটের সাথে ট্যান্টালাম লক্ষ্যকে বন্ড করার জন্য ডিফিউশন ওয়েল্ডিং বা ব্রেজিং ব্যবহৃত হয়

ট্যানটালাম লেপযুক্ত লক্ষ্যগুলির নিম্নলিখিত বৈশিষ্ট্য রয়েছে:

উচ্চ গলনাঙ্ক এবং দুর্দান্ত জারা প্রতিরোধের: ট্যানটালাম লেপযুক্ত লক্ষ্যগুলিতে 3017 ডিগ্রি সি পর্যন্ত একটি গলনাঙ্ক রয়েছে এবং 5458 ডিগ্রি সি এর একটি ফুটন্ত পয়েন্ট রয়েছে, যা দুর্দান্ত জারা প্রতিরোধের প্রদর্শন করে এবং ঘরের তাপমাত্রায় অ্যাকোয়া রেজিয়ার সাথে প্রতিক্রিয়া দেখায় না.}
উচ্চ তাপমাত্রার স্থায়িত্ব: 500 ডিগ্রি সেন্টিগ্রেডে 400 এমপিএরও বেশি শক্তি বজায় রাখতে সক্ষম, উচ্চ-পাওয়ার স্পটারিংয়ের জন্য উপযুক্ত .
লো গ্যাস শোষণ পৃষ্ঠের শক্তি: পৃষ্ঠের শক্তি 0 . 8 জে/এম ² এর মতো কম, কার্যকরভাবে এআর গ্যাসের শোষণকে দমন করে এবং ফিল্মের জমার হারকে উন্নত করে।
Excellent film properties: When the thickness of the prepared TaN barrier layer is ≤ 5nm, it can still prevent Cu diffusion, and the critical current density is>1 × 10 ⁶ এ/সেমি ² .

ট্যানটালাম প্রলিপ্ত লক্ষ্যগুলির প্রধান অ্যাপ্লিকেশন ক্ষেত্রগুলির মধ্যে রয়েছে:

সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন: ট্যান্টালাম প্রলিপ্ত লক্ষ্যগুলি সাধারণত সংহত সার্কিট উত্পাদন ক্ষেত্রে কপার আন্তঃসংযোগ বাধা স্তরগুলিতে ব্যবহৃত হয়, বিশেষত 10nm নোডের নীচে চিপগুলিতে . টিএ/ট্যান বিলেয়ার কাঠামো 10 ⁷ ঘন্টা ⁷. তে বৈদ্যুতিনগ্রেশন ব্যর্থতার সময় বাড়িয়ে দিতে পারে
অপটিকাল লেপ: ট্যান্টালাম লেপযুক্ত লক্ষ্যগুলি নির্দিষ্ট অপটিক্যাল বৈশিষ্ট্যযুক্ত পাতলা ছায়াছবি তৈরিতে ব্যবহার করা যেতে পারে, অপটিক্যাল ডিভাইস, প্রদর্শন এবং সেন্সরগুলিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয় .
মেডিকেল ডিভাইসগুলি: তাদের দুর্দান্ত বায়োম্পোপ্যাটিভিলিটির কারণে, ট্যানটালাম প্রলিপ্ত লক্ষ্যগুলি হাড়ের প্লেট এবং যৌথ সিন্থেসিসের মতো অর্থোপেডিক ইমপ্লান্ট তৈরিতে ব্যবহৃত হয়, মানুষের প্রত্যাখ্যান প্রতিক্রিয়াগুলি হ্রাস করে .
হাই এন্ড ম্যানুফ্যাকচারিং: উচ্চ-প্রান্তের উত্পাদন যেমন স্পটারিং লেপ এবং অপটিক্যাল লেপের মতো, ট্যানটালাম প্রলিপ্ত লক্ষ্যগুলির চাহিদা বেড়েছে এবং বিশ্বব্যাপী বাজারের আকারটি 2026. দ্বারা 3.27 বিলিয়ন ইউয়ান পৌঁছে যাবে বলে আশা করা হচ্ছে

ভবিষ্যতে, লেপ প্রক্রিয়াগুলির অবিচ্ছিন্ন অপ্টিমাইজেশনের সাথে, ট্যান্টালাম টার্গেট উপকরণগুলি তাদের প্রয়োগের সীমানা আরও নতুন শক্তি এবং নির্ভুলতা উত্পাদনতে প্রসারিত করবে, প্রযুক্তিগত বিকাশের জন্য আরও নির্ভরযোগ্য উপাদান সমর্থন সরবরাহ করবে .

গরম ট্যাগ: ট্যানটালাম লেপযুক্ত টার্গেট, চীন ট্যান্টালাম প্রলিপ্ত লক্ষ্য উত্পাদনকারী, সরবরাহকারী, কারখানা